Yen 3-amino-5-mercapto-1,2 dihirup, 4-triazole, mangga pindhah pasien menyang udara seger; yen kena kulit, jupuk sandhangan sing wis kontaminasi lan wisuh kulit kanthi banyu lan banyu sabun. Yen sampeyan rumangsa ora nyaman, golek saran medis; yen sampeyan duwe kontak sing padhang ing mripat, misahake kelopak mata, mbilas nganggo banyu sing mili utawa uyah normal, lan enggal golek saran medis; yen ditelan, gargle langsung, aja nyuntak muntah, lan enggal golek dhokter.

Iki digunakake kanggo nyiyapake solusi pembersih fotoresist

Ing proses produksi LED lan semikonduktor umum, topeng fotoresist dibentuk ing permukaan sawetara bahan, lan pola kasebut ditransfer sawise dipapar. Sawise entuk pola sing dibutuhake, fotoresist residual kudu diudani sadurunge proses sabanjure. Ing proses iki, dibutuhake ngilangi fotoresist sing ora perlu tanpa ngrusak substrat. Saiki, solusi pembersih fotoresist umume kasusun saka pelarut organik polar, alkali lan / utawa banyu, lsp. Fotoresist ing wafer semikonduktor bisa dicopot kanthi dicelupake chip semikonduktor menyang cairan pembersih utawa ngumbah chip semikonduktor kanthi cairan pembersih .

Jinis anyar solusi pembersih fotoresis wis dikembangake, yaiku deterjen etase rendah sing ora berair. Isine: amina alkohol, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole lan cosolvent. Solusi reresik fotoresistis iki bisa digunakake kanggo mbusak fotoresist ing LED lan semikonduktor. Sanalika, ora ana serangan ing landasan, kayata aluminium logam. Apa maneh, sistem iki tahan banyu sing kuwat lan njembarake jendela operasine. Nduwe prospek aplikasi sing apik ing bidang reresik chip LED lan semikonduktor.